수냉식 자기 부상 펌프 가열 온도 제어 시스템 ISO-K/CF

자기 부상 펌프, CXF-250/2301, ISO-K/CF, 온보드 수냉식

자기 부상 분자 펌프는 현대 반도체 제조, 칩 제조, 산업 도금 및 과학 기기 분야의 응용 요구 사항을 충족하는 자력에 의해 샤프트가 지원되는 펌프입니다.

기술:

• 자기 베어링을 위한 제어 기술: 고도의 국제 제어 이론을 기반으로 하는 5축 자기 부상은 고속 샤프트의 안정적인 부상 및 안정적인 작동과 같은 상당한 이점을 보장합니다.
• 모터 드라이브 제어 기술: 고효율 고속 DC 모터 및 서보 제어 시스템은 모터의 최대 에너지를 가지며 샤프트의 회전 속도를 자동으로 보상하여 안정적인 시동, 안정적인 작동 및 동적 에너지의 자동 조절 기능을 실현합니다.
• 탄소 섬유 복합 로터 기술: 고강도 알루미늄 합금과 경량 탄소 섬유를 합성하여 제작되었습니다.경량화, 강도향상을 크게 하여 고속회전, 고성능, 고신뢰성을 목표로 하고 있습니다.
• 부식 방지 기술: 챔버 내 부품의 표면은 반도체 제조 공정에서 부식성 가스로 인한 부식에 장기간 저항할 수 있도록 특수 처리되어 있습니다.또한 N2와 같은 불활성 가스를 펌프의 샤프트에 완전히 채워 펌프의 저진공 부분을 보호하여 부식성 가스를 장기간 안정적으로 배출하는 기능을 구현합니다.
• 난방 온도 제어 시스템: 전기 히터 및 온도 조절기가 장착되어 있어 냉각수, 공기 뼈 가열, 전기 가열 및 보호 가스에 의해 운반되는 열을 작동 중에 모니터링 및 제어할 수 있습니다. 펌프의 온도는 장기간 일정 값으로 유지될 수 있으며 일부 기체 물질은 상온에서 고체 물질로 전환되지 않고 펌프에 침전되지 않으며 에칭과 같은 특수 공정에 대한 요구 사항을 충족할 수 있습니다.

이점들:

이 펌프는 작동 중 마찰이 없고 저전력 소모라는 장점이 있습니다. 펌프에 윤활제를 바르지 않고도 정말 깨끗한 고진공 및 초고진공을 쉽게 얻을 수 있으며 장기간 부식성 가스를 추출할 수 있습니다. 보호로 인해 높은 안전성과 긴 수명 정밀 세라믹 볼 베어링과 갑작스런 정전 시 발전 기능.마찰, 오염, 유지보수가 없고 진동이 적은 장점이 있으며 어떤 방향으로도 설치가 가능합니다.

신청:

특히 반도체 제조, 클립 제조, 산업 도금 및 과학 기기 분야의 에칭, CVD, PVD 및 이온 주입에 존재하는 부식성 가스 및 상온에서 쉽게 응고되는 가스의 추출.

명세서: