제품 상세 정보:
결제 및 배송 조건:
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매끄럽게 하기: | 자기 부상 | 플랜지: | ISO-K/CF |
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냉각: | 물 | 펌핑 속도: | 2300L/s N2 |
하이 라이트: | 터보 분자 펌프,터보 분자 진공 펌프 |
자기 부상 펌프, CXF-250/2300, ISO-K/CF, 수냉식, 외부 컨트롤러
자기 부상 분자 펌프는 현대 반도체 제조, 칩 제조, 산업 도금 및 과학 기기 분야의 응용 요구 사항을 충족하는 자력에 의해 샤프트가 지원되는 펌프입니다.
기술:
이점들:
이 펌프는 작동 중 마찰이 없고 저전력 소모라는 장점이 있습니다. 펌프에 윤활제를 바르지 않고도 정말 깨끗한 고진공 및 초고진공을 쉽게 얻을 수 있으며 장기간 부식성 가스를 추출할 수 있습니다. 보호로 인해 높은 안전성과 긴 수명 정밀 세라믹 볼 베어링과 갑작스런 정전 시 발전 기능.마찰, 오염, 유지보수가 없고 진동이 적은 장점이 있으며 어떤 방향으로도 설치가 가능합니다.
신청:
반도체 제조, 클립 제조, 산업 도금 및 과학 기기 분야에서 에칭, CVD, PVD 및 이온 주입에 존재하는 부식성 가스 및 상온에서 쉽게 응고되는 가스의 추출.
사양:
플랜지(인) | DN250 CF/ISO-K, ISO-F |
플랜지(아웃) KF | DN40 |
펌핑 속도(L/s) | N2:2300 |
아르:2250 | |
그:1900 | |
시간2:850 | |
압축비 | N2:108 |
아르:108 | |
그:104 | |
시간2:10삼 | |
극한압력(Pa) | CF:1×10-6 |
ISO-K/F:6×10-6 | |
최대연속 전진공압(Pa) | 60 |
최대전진공 압력 | N2:250 |
전체 가스(sccm) | N2:3600 |
아르:1400 | |
그:2800 | |
시간2:2100 | |
회전 속도(rpm) | 27000 |
가동시간(분) | ≤11 |
냉각 유형, 표준 | 물 |
냉각수 소비량(L/min) | 1 |
냉각수 온도(℃) | 20 |
전원 연결: 전압(V AC) | 220 |
컨트롤러 모델 | CXF-2300 |
무게(kg) | 59(ISO-K/F) 62(CF) |
담당자: sales
전화 번호: +8613810212935