제품 상세 정보:
결제 및 배송 조건:
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플랜지: | ISO-K/CF DN200 | 냉각: | 물 |
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매끄럽게 하기: | 자기 부상 | 펌핑 속도: | 1400L/s N2 |
하이 라이트: | 터보 분자 펌프,터보 분자 진공 펌프 |
자기 부상 펌프 , CXF-200/1400 , 수냉식 , ISO-K/CF , 외부 컨트롤러
자기 부상 분자 펌프는 자력에 의해 샤프트가 지지되는 펌프입니다.
시리즈 자기 부상 분자 펌프는 현대 반도체 제조, 칩 제조, 산업 도금 및 과학 기기 분야의 응용 요구 사항을 충족하기 위해 KYKY에서 개발한 진공 발생 장비입니다.
기술:
이점들:
1. 작동 중 마찰이 없고 전력 소모가 적습니다.
2. 펌프에 무급유로 정말 깨끗한 고진공 및 초고진공 획득 용이
3. 장기간 부식성 가스 추출 가능
4. 정밀 세라믹 볼로 베어링을 보호하여 높은 안전성과 긴 수명
5. 전원이 갑자기 꺼졌을 때 전원을 발생시키는 기능
6. 마찰이 없음
7. 무공해
8. 유지 보수가 필요 없음
9. 낮은 진동
10. 모든 방향으로 설치됩니다.
신청:
반도체 제조, 클립 제조, 산업 도금 및 과학 기기 분야의 에칭, CVD, PVD 및 이온 주입에 존재하는 부식성 가스 및 상온에서 쉽게 응고되는 가스의 추출 .
명세서:
플랜지(인) | DN200 CF/ISO-K, ISO-F |
플랜지(아웃) KF | DN40 |
펌핑 속도(L/s) | N2:1400 |
아르:1360 | |
그:880 | |
시간2:560 | |
압축비 | N2:108 |
아르:108 | |
그:104 | |
시간2:10삼 | |
극한압력(Pa) | CF:1×10-6 |
ISO-K/F:6×10-6 | |
최대연속 전진공압(Pa) | 100 |
최대전진공 압력 | N2:210 |
전체 가스(sccm) | N2:2700 |
아르:980 | |
그:2000 | |
시간2:1800 | |
회전 속도(rpm) | 30000 |
가동시간(분) | ≤8 |
냉각 유형, 표준 | 물 |
냉각수 소비량(L/min) | 1 |
냉각수 온도(℃) | 20 |
전원 연결: 전압(V AC) | 220 |
컨트롤러 모델 | CXF-1400 |
무게(kg) | 50(ISO-K/F) 52(CF) |
담당자: sales
전화 번호: +8613810212935